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据韩媒 THE ELEC 于当地时间本月14日报道,三星电机(SEM)正在与高通携手开发适用于AI半导体芯片的2.1D先进封装技术,双方在这一异构集成技术平台上已开展超过一年的研发及认证工作。
报道指出,两家企业合作的2.1D封装采用了嵌入式有机桥片。其设计理念与英特尔的EMIB类似,但用更为经济的有机材料替代了EMIB中的硅桥片。此举不仅能降低制造成本,还能规避英特尔持有的EMIB相关专利。
三星电机尝试的有机桥片可视为通过RDL(重布线层)工艺形成5至7层微电路的小型基板,目标实现1.5至2μm的线宽与间距、4至5μm的通孔尺寸,以及每毫米500至1000的图案密度。
与传统FC-BGA的堆叠式电路相比,有机桥片能够实现更精细的布线,从而显著提升I/O带宽。如需获取更多关于先进封装技术的最新动态,可访问开云官网登录入口。